『반도체집적공정』은 결정 성장에서 소자와 회로의 집적까지 반도체 제조 기술에 대한 개요를 제공하는 교재이다. 물리학, 화학, 전기 및 전자 공학, 화학 공학과 재료 공학을 전공하는 대학 4학년 혹은 대학원 1년차 학생들을 위한 책으로 집적 회로 제조에 관한 한 학기 과정에 편리하게 사용할 수 있도록 구성했다. 기본적인 제조 단계의 개요뿐만 아니라 주요 반도체 소자들과 중요 기술 개발 결과들에 대하여 간략한 역사적인 개관을 제공하고, 결정 성장 기법, 도판트 도입에 대한 중요한 기법 등에 대해 다루고 있다.
1장 서론
1.1 반도체 물질
1.2 반도체 소자
1.3 반도체 공정 기술
1.4 기본 제작 단계
1.5 요약
2장 결정 성장
2.1 액상 용탕으로부터의 실리콘 결정 성장
2.2 실리콘 부유 대역 공정
2.3 GaAs 결정 성장 기술
2.4 재료 특성
2.5 요약
3장 실리콘 산화
3.1 열 산화 공정
3.2 산화 과정 중 불순물 재분포
3.3 실리콘 산화막의 마스킹 특성
3.4 산화물 품질
3.5 산화물 두께 특성
3.6 산화 모의 실험
3.7 요약
4장 광 노광 공정
4.1 광학적 노광
4.2 차세대 노광 기술
4.3 광 노광 모의 실험
4.4 요약
5장 식각 공정
5.1 습식 화학 식각
5.2 건식 식각
5.3 식각 모의 실험
5.4 요약
6장 확산
6.1 기본 확산 공정
6.2 외인성 확산
6.3 측면 확산
6.4 확산 모의 실험
6.5 요약
7장 이온 주입
7.1 주입된 이온의 범위
7.2 이온 주입 손상과 열처리
7.3 이온 주입 관련 공정
7.4 이온 주입 모의 실험
7.5 요약
8장 박막 중착
8.1 에피택시얼 성장 기술
8.2 에피택시얼 층의 구조와 결함
8.3 유전체 증착
8.4 다결정 실리콘 증착
8.5 금속화 공정
8.6 증착 모의 실험
8.7 요약
9장 집적 공정
9.1 수동 부품
9.2 쌍극성 기술
9.3 MOSFET 기술
9.4 금속-반도체 전계 효과 트랜...지스터(MESFET) 기술
9.5 MEMS 기술
9.6 공정 모의 실험
9.7 요약
10장 IC 제조
10.1 전기적 시험
10.2 패키징
10.3 통계적 공정 변수 제어
10.4 통계적 실험 계획법
10.5 수율
10.6 컴퓨터 통합 생산
10.7 요약
11장 미래의 추세와 도전
11.1 집적화를 위한 시도
11.2 SOC
11.3 요약
부록 A 기호 목록
부록 B 단위(SI 단위)
부록 C 단위용 접두어
부록 D 그리스 문자
부록 E 물리학적 상수
부록 F 절대 온도 300도에서 Si와 GaAs의 특성
부록 G 오차 함수 특성
부록 H 기체의 기본적인 운동 이론
부록 I SUPREM 명령문
부록 J PROLITH 수행
부록 K t분포의 백분율 소수점
부록 L F분포의 백분율 소수점
찾아보기
Gary S. May [저]
[저서] 반도체 집적 공정
곽계달 [저]
[역서] 반도체 집적 공정
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